小状元记忆头戴的佩戴位置有严格要求吗？

小状元的激活位点是背外侧前额叶皮层（dorsolateral prefrontal cortex，DLPFC），属于前额叶皮层（prefrontal cortex, PFC）的一部分。前额叶皮层即覆盖额叶前部的皮质层，是个体中发育最晚成熟的结构，约占整个成年人类大脑皮层面积 29%，是许多高级认知功能的关键脑区，与其他的大脑皮层和皮层下结构具有广泛的神经投射联系。背外侧前额叶皮层与工作记忆、规则学习、计划、注意力和动机等功能相关。

如果对于使用者来说相应的位点存在长痘等皮肤损伤需要避开，或由于位点处头发较厚难以获得较好的佩戴质量，可以调节伸缩杆长度，将头戴佩戴于发际线附近。这是不影响使用效果的，因为小状元记忆头戴激活时可以在激活位点周围较广泛的大脑区域产生弱电场，而对学习记忆相关神经元的精确作用并非依赖于「空间定位」，而是依赖于「状态定位」，即促进已经有一定活跃程度但尚处于静息态的神经元激活，而对不活跃的静息神经元没有影响，因此在学习时使用能精准促进相关神经元激活。